韩科研团队提出磁弹性耦合可“替代”DMI机制,为普通磁材生成手性自旋纹理打开新路

长期以来,物理学界认为磁性材料中斯格明子的形成必须依赖Dzyaloshinskii-Moriya相互作用(DMI),这种相互作用通常仅存在于缺乏空间反演对称性的特殊材料中。这个限制成为斯格明子研究和应用的材料瓶颈。韩国科学技术院的Gyungchoon Go和Se Kwon Kim团队的最新研究打破了这一认知。

这项研究的价值不仅在于提出新的自旋纹理,更在于改变了对"手性从何而来"的认识:当晶格振动与磁矩耦合被纳入核心机制,许多普通的磁性材料都可能成为手性自旋结构的载体。关键在于能否把理论上的"临界阈值与可控失稳"转化为工程上的"可制造、可重复、可集成",这将决定此新机制在未来信息技术中的实际应用价值。