2002年的时候，上海微电子就已经开始涉足光刻机领域。当时的难度可不小，他们先啃下了90纳米的技术，又一路攻克65纳米、45纳米。到2022年，他们已经完成了28纳米样机的测试。就在这一年，中国还有个大动作，那就是靠着“多重曝光”等工艺把5纳米产线跑了起来。这一步虽然难走、成本也高，但起码证明了没有EUV设备，咱们照样能搞定先进制程。ASML之前那所谓的“停滞10到15年”的预言，这下算是彻底打脸了。 到了2024年9月，国产28纳米DUV整机终于批量交付给了中芯上海。更重要的是，配套的国产光源、光刻胶这些核心零部件也都过关了，实现了量产。这就意味着咱们在搞光刻机这件事上，不光是做了个外壳，而是实实在在把整个产业链给补全了。到了2025年，国产光刻和配套设备在国内市场的渗透率已经超过八成。 对于ASML来说，情况可没那么乐观。2024年4月的时候，美方就开始动手了，公开要求荷兰限制已经卖到中国的光刻机维保服务。这话的意思很直白：你花了大钱买回来的设备，以后原厂不给你修、不给你升级软件，这设备很快就得变成一堆废铁。这一招简直就是突破了商业底线。 到了2024年10月31日，荷兰更是提前半年启动了新规。他们直接把DUV光刻机的出口门槛卡在了7纳米及以下。也就是说稍微先进点的DUV咱们也买不到了。紧接着到了2025年1月中旬，荷兰更是切断了我们获取相关技术信息的渠道。 其实这场围堵早在2019年就拉开了序幕。当时美国直接施压荷兰堵住了EUV极紫外光刻机的出口通道。EUV可是芯片产业的“皇冠”，美国这一招确实狠。但咱们中国从来不是那种被卡脖子就认输的国家。几年下来我们不仅没停步不前，反而摸索出了自己的路。 2023年3月的时候，荷兰率先宣布把DUV光刻机也纳入对华管制清单。6月底他们出具体规则，9月1日就正式执行一点喘息的机会都不给。到了10月美国也赶紧跟进扩大实体清单把一大批涉及先进制程的中企全给圈进了封锁范围。 西方给咱们竖起了一堵层层叠叠的围墙。从整机到零部件再到售后服务全都卡得死死的。这种做法本质上已经不是简单的“挡货”了，更像是一场“断根”行动。 不过中国科技从来都不会被吓退。“两步走”策略开始加速推行：一方面是本土产业的长期布局；另一方面是工艺上的自我突破。 美国和荷兰现在急着联手批评国产技术这反倒证明了咱们的路走对了。咱们的突围从来不是为了打破什么秩序而是为了争一口气为了让咱们的芯片产业不再被别人卡脖子而这一天已经越来越近了！