光刻机这块，EUV现在是个重点发展方向，全球市场主要还是那三个巨头在控盘。光刻在晶圆制造里头算是个核心环节，毕竟这是电路图案转移的第一步。光刻机价格贵得吓人，在半导体设备里头占比是最高的。到了2024年，全球半导体设备卖了1090亿美元左右，其中光刻、刻蚀还有薄膜沉积这三类是最核心的设备，光刻机大概占了24%的份额。你看那个图表1，就知道2024年全球半导体设备价值量占比的情况了。 最近几年，消费电子那块需求比较疲软，不过像电动汽车、风光储还有人工智能这些新领域倒是突然火起来了，给半导体产业注入了新的活力。有了这些新兴需求的带动，全球光刻机的需求也就跟着上去了，市场规模也保持着平稳增长的趋势。数据显示，2023年全球光刻机市场规模涨到了271.3亿美元，2024年更是突破了315亿美元。这个图表2把2020到2024年的市场规模和增长趋势给画出来了。 再看看销量结构这块，目前还是中低端产品KrF和i-Line卖得最多，加起来占了71.5%（37.9%加33.6%）；ArFi占了15.4%，ArF dry占了5.8%，EUV占了7.3%。这说明不同种类的光刻机需求不太一样。不过话说回来，这两年半导体行业一直在发展，EUV的重要性是越来越凸显出来了。 这次的市场格局还是挺稳的，三巨头一直在寡头垄断的状态里没有变过。ASML、Canon还有Nikon一直都是前三名的存在。你看那个图表4的出货量口径数据就知道了，ASML大概拿了61%的市场份额，Canon拿了34%，Nikon拿了5%。至于高端EUV机型这块就完全被ASML垄断了，Nikon和Canon主要还是在成熟DUV的业务上发力。 这份报告的详细内容和深度分析我放在了最新发布的《2025年中国光刻机行业专题调研与深度分析报告》里头，你可以去看看更详细的数据。