龙图光罩拟筹14.6亿,扩大40nm到28nm的半导体掩模版产能

龙图光罩准备筹措最多14.6亿元,用来扩大40nm到28nm的半导体掩模版产能。3月23日晚上,这家公司发了个公告,说打算给特定对象发行股票,拿到的钱不超过14.6亿,扣掉发行费后,就去盖40nm—28nm的生产线。龙图光罩觉得这事儿办成了,就能把咱们国家这个制程段的空白补上,技术和研发速度都会上去。这不仅是对前面项目的延续,也是守住位子、保住竞争力的必经之路。现在公司90nm的货已经能大量出货了,65nm的也在送样验证。 随着中国半导体产业越跑越快,晶圆制程节点也在往高处走,公司得提前把更先进的东西布好局才行。28nm制程被大家看成是衡量国内掩模版企业技术的核心标杆。你看市场上的情形:28nm以下的地方,境外企业有先发优势;28nm以上呢,国内已经进入替代后期;中间的65nm到130nm是快速替代期;而40nm到28nm还在初期。 要是公司不赶紧跟上这个节点的布局,肯定会被动挨打:既可能错过国产替代的增量机会,也可能因为技术落后丢了客户。 华虹半导体、士兰微、燕东微、粤芯半导体、积塔半导体这些大厂是龙图光罩的核心客户,里头有些还是战略股东。大家合作了好多年,以后这几家肯定有大量的40nm—28nm掩模版需求。 再看下游客户买掩模版通常是成套的买,除了少数关键层用最高的制程,其他非关键层为了省钱一般用稍低的制程。所以这次项目搞了更高的节点以后,新订单一来,65nm以上的需求也会跟着上来。