首条二维半导体工程化示范工艺线在上海浦东亮了起来

首条二维半导体工程化示范工艺线终于在上海浦东亮了起来。2025年,复旦大学集成芯片与系统全国重点实验室周鹏、包文中教授联合团队,搞出了全球第一款基于二维半导体材料的32位RISC-V架构微处理器“无极”,并把成果发表在了顶级学术期刊《自然》上。这颗芯片的制造过程完全不依赖极紫外(EUV)光刻设备,给咱们绕开传统技术封锁和极高设备门槛开辟了一条新路。周鹏教授讲了,利用当前二维半导体的微米级工艺,功耗就能做到硅基纳米级水平,给那些受限于电池续航的移动终端、无人机和物联网设备带来革命性改变。包文中教授也分析说,尽管二维芯片的集成规模还在早期,但工艺线和现有的硅基产线很兼容。他打算分阶段推进技术迭代:计划在2026年6月通线,2027年赶上硅基28纳米工艺水平,还要力争在2030年前追平国际先进的5纳米制程。 工艺线的建设主体是实验室团队孵化的创新企业。包文中教授指出,工艺线的建设目标很清晰:这次点亮是个振奋人心的里程碑,连接了从原创研究到工程化验证,再到未来产业培育的关键环节。它标志着咱们在前沿研究和产业化转换上取得了实质性突破。当前全球半导体产业正面临物理极限和技术进步的双重挑战。随着硅基芯片制程不断逼近物理极限,微缩难度和成本越来越高,寻找新材料和新架构成了学术界和产业界的核心任务。二维半导体材料因其超薄结构、优异特性以及潜在的兼容性,被视为延续摩尔定律、开启“后摩尔时代”的重要路径之一。 这个工艺线正是把前沿技术从实验室带到工程化验证的基础设施。尽管前路还有很多技术挑战和产业化艰辛,但这一步跨越无疑为咱们突破传统范式束缚注入了信心。随着后续通线运行和持续迭代,咱们有望在未来竞争中积累更多经验。从国家战略视角看,这不仅是在科技领域争夺制高点,更是提升产业自主可控能力、保障供应链安全的长远之举。首条示范工艺线点亮是个振奋人心的里程碑。