我国突破2英寸单晶金刚石制备技术 超宽禁带半导体材料研发取得重大进展

问题——“终极半导体”材料为何难规模化制备 金刚石因禁带宽度大、击穿电场强、热导率高、载流子迁移率等性能突出,被业界视为超宽禁带半导体的重要方向,在高功率电力电子、射频器件、极端环境电子学以及量子信息等领域具备应用潜力;但长期以来,高质量单晶金刚石面临“难长大、难长稳、难加工”的瓶颈:在大尺寸生长过程中容易出现多晶伴生、缺陷累积与应力集中,晶体尺寸、均匀性与可加工性难以兼顾,制约了器件级晶圆的形成与工程验证。 原因——关键在于生长界面调控与拼接过渡的系统难题 从材料机理看,大尺寸单晶生长需要对晶体表面台阶演化、物质输运和缺陷扩展进行精细调控;从工程实现看,籽晶扩展、拼接缝过渡以及后续晶圆剥离切割等环节相互耦合,单点优化难以带来整体提升。业内普遍认为,大尺寸单晶金刚石的突破不只是“长出来”,更需要在稳定生长窗口、缺陷抑制以及晶圆加工工艺上形成可复制的成套方案。 影响——2英寸单晶与配套工艺提升材料供给能力 据介绍,吉林大学邹广田院士团队围绕上述难题持续开展系统研究,形成“台阶流调控技术”等方法,并制备出2英寸(50×50mm²)单晶金刚石。团队在多个关键环节取得协同进展:其一,通过识别并调控生长过程的关键窗口,发现并利用“单晶生长区”,实现无边缘多晶伴生的稳定生长,提高了大尺寸扩展的可控性;其二,揭示“一致台阶流”对籽晶拼接缝平滑过渡的关键作用,在保证晶体连续性的同时简化工艺流程,为降低成本、提升良率提供了思路;其三,在晶圆化加工上联合研发激光隐形切割技术,成功剥离出厚度约350微米的自支撑单晶金刚石晶圆,使“材料生长—晶圆制备—应用验证”的链条更贯通。 上述进展表明,国内高质量、大尺寸单晶金刚石工程化能力上取得实质性提升,有助于增强我国超宽禁带半导体材料领域的自主供给能力,并为后续器件制备与集成验证提供关键材料基础。 对策——以国家平台牵引,推动“材料—工艺—器件—应用”协同 业内人士认为,金刚石半导体的产业化不仅取决于材料尺寸,还取决于缺陷密度、均匀性、掺杂与外延能力、晶圆标准化以及与现有工艺线的兼容程度。下一步需要在三上持续发力:一是面向器件需求建立评价体系,将击穿、热管理、可靠性等指标前置到材料研发;二是加强晶圆级工艺能力建设,围绕切割、抛光、外延与封装形成标准流程,提升批量一致性;三是推进产学研用联合攻关,以示范应用牵引材料迭代,缩短从实验室样品到工程样机的周期。 作为基础支撑平台,吉林大学高压与超硬材料全国重点实验室金刚石研究领域积累深厚。公开信息显示,该实验室持续推进从材料生长到界面优化、从单晶到有关新相结构探索等研究布局,逐步完善研发—制备—应用链条,为关键核心技术攻关提供平台支撑。 前景——商业化窗口有望加速打开,但仍需跨越工程门槛 随着新型电力系统建设、数据中心能效提升,以及航空航天与高端制造对极端工况电子器件需求增长,超宽禁带半导体材料的重要性进一步凸显。金刚石若在晶圆规模化供给、稳定掺杂和器件一致性上持续突破,有望在高功率高频、高温高辐照等场景形成差异化优势。此外,行业也需直面从2英寸向更大尺寸扩展、从材料性能走向器件可靠性所带来的制造成本、良率管理与标准体系建设等挑战。综合来看,随着器件集成验证推进和产业链协同完善,金刚石材料的工程应用有望进入加速期。

关键材料的突破往往不是一次性的“点状成果”,而是从机理认知到工程方法、再到应用验证的连续推进。此次大尺寸单晶金刚石晶圆制备的进展,反映了以原创技术突破关键瓶颈的路径。面向未来,只有持续推进工艺标准化、完善验证体系并强化产业协同,才能将实验室成果转化为稳定可控的供给能力,为高端制造与战略性新兴产业提供更可靠的材料支撑。